Монокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля P

Монокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля P

16 045 руб.

Описание

ОдиночныйБоковой полировка монокристаллическая силиконовая

Технические характеристики:

Один кристалл, 20*25 мм * 0,725.

Материал:

Кремний высокой чистоты Si Одиночная кристаллическая подложка. P (100) resistanc 《 0. 01

Область применения:

1. PVD/CVD покрытие подложки

2. Используется в качестве XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), AFM (атомный силовой микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектроскопия и другие аналитические тестовые субстраты

3. synchrotron радиационный экспериментальный носитель образцов

4. Подложка для молекулярного пучка эпитаксиального выращивания

5. Процесс полупроводниковой литографии и так далее

Монокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля PМонокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля PМонокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля PМонокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля PМонокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля PМонокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля PМонокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля PМонокристаллическая силиконовая Вафля/20*25 мм Кремниевая подложка/однобоковая полированная Кремниевая Вафля P

Характеристики

Габаритные размеры
25*20*0.725
Стандартный
GB
Наличие стандарта
Стандарт
Номер модели
Single crystal silicon wafer
Материал
Si