Двойная полированная монокристаллическая Si подложка 25*2 мм/эпитаксиальная Вафля/Удельное сопротивление опционально/Кремниевая подложка высокой чистоты

Описание

Технические характеристики:

1. Материал: силикон высокой чистоты

2. Диаметр: 25 мм

3.Толщина:2 мм (+-0,15 мм)

4. Удельное сопротивление: 0,0001-100 Вт

5. Направленность: <111>, <100>, <110>

6. Полировка: двойная полировка

7. Планность: <1 микрометр

8. Основное применение: Подложка для PVD/CVD пленки покрытия/экспериментальный носитель образцов/Подложка для молекулярного луча epitaxy

Низкофоновый монокристаллический силиконовый диск

Продукты могут быть настроены. Если вы хотите эту услугу, пожалуйста, свяжитесь с нами.

Пожалуйста, свяжитесь с нами перед покупкой, чтобы подтвердить наличие количества товаров на складе.